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氫氣還原法制備氧化鉻綠（主要成分為 Cr?O?），核心是高溫下用氫氣還原鉻的高價(jià)氧化物或氫氧化物，關(guān)鍵條件如下：
1. 原料選擇
需使用鉻的高價(jià)氧化物或氫氧化物作為前驅體，常見(jiàn)原料包括三氧化鉻（CrO?，鉻酐）、氫氧化鉻（Cr (OH)?），以及鉻酸酐預處理后的中間產(chǎn)物（如 CrO?(OH)?）。
2. 核心反應條件
反應溫度：主流溫度范圍為 800-1200℃。溫度過(guò)低會(huì )導致還原不完全，過(guò)高則可能生成低價(jià)鉻化物（如 Cr?O?），影響產(chǎn)物純度。
氫氣純度：需使用純度≥99.9% 的高純度氫氣。若氫氣中含 O?、N?、H?O 等雜質(zhì)，可能導致產(chǎn)物氧化或引入雜質(zhì)，降低氧化鉻綠品質(zhì)。
氫氣流量：需控制合適流量（通常為 50-200 mL/min，具體隨反應規模調整）。需保證氫氣過(guò)量，以推動(dòng)還原反應完全進(jìn)行，同時(shí)帶走反應生成的水蒸氣。
反應時(shí)間：隨反應溫度、原料粒度不同有所差異，一般為 2-6 小時(shí)。需通過(guò)取樣分析（如 XRD 檢測）確認 Cr3?還原完全，避免殘留未反應的高價(jià)鉻化合物。
反應氛圍：全程需在惰性或還原性氛圍中操作。反應開(kāi)始前，需先通氫氣排盡反應裝置內的空氣，防止高溫下原料或產(chǎn)物被空氣中的氧氣氧化。
3. 后續處理
反應結束后，需繼續在氫氣氛圍下將產(chǎn)物冷卻至室溫（通常＜100℃），再切換為惰性氣體（如氮氣）保護，避免產(chǎn)物接觸空氣后發(fā)生二次氧化。
冷卻后的產(chǎn)物需經(jīng)過(guò)粉碎、篩分處理，得到不同粒度規格的氧化鉻綠粉末。
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